Knowledge Management System of Institue of Mechanics, CAS
| 第7届国际等离子体化学会议(ISPC-7) | |
| 朱清文 | |
| 发表期刊 | 力学进展
 |
| 1986 | |
| 卷号 | 16期号:3页码:412 |
| ISSN | 1000-0992 |
| 摘要 | <正> Ⅰ.概况 国际等离子体化学会议(ISPC)每两年举行一次,主要交流等离子体化学如下几方面的研究和发展情况:合成,诊断,等离子体刻蚀,等离子体沉积和聚合,模型,表面作用以及熔化、气化、等离子体喷涂等。ISPC-7由荷兰Ejndhoven技术大学负责组织,Philips公司支持,在Philips会议中心举行。会议期1985年7月1—5日。第一天样品展览, |
| 关键词 | 等离子体化学 等离子体喷涂 等离子体技术 等离子体诊断 等离子体刻蚀 高频等离子体 等离子体发生器 热力学性质 荧光光谱 |
| 语种 | 中文 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/37130 |
| 专题 | 力学所知识产出(1956-2008) |
| 通讯作者 | 朱清文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 朱清文. 第7届国际等离子体化学会议(ISPC-7)[J]. 力学进展,1986,16,3,:412. |
| APA | 朱清文.(1986).第7届国际等离子体化学会议(ISPC-7).力学进展,16(3),412. |
| MLA | 朱清文."第7届国际等离子体化学会议(ISPC-7)".力学进展 16.3(1986):412. |
| 条目包含的文件 | 下载所有文件 | |||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| Paper0776.pdf（107KB） | 开放获取 | -- | 浏览 下载 | |||
| 个性服务 |
| 推荐该条目 |
| 保存到收藏夹 |
| 查看访问统计 |
| 导出为Endnote文件 |
| Lanfanshu学术 |
| Lanfanshu学术中相似的文章 |
| [朱清文]的文章 |
| 百度学术 |
| 百度学术中相似的文章 |
| [朱清文]的文章 |
| 必应学术 |
| 必应学术中相似的文章 |
| [朱清文]的文章 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论