| 基于胶体微球纳米透镜的无掩模光刻系统 |
| 蓝鼎 ; 吴奎; 魏同波; 王育人
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| 2016-08-31
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| 专利权人 | 中国科学院力学研究所
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| 摘要 | 本发明公开一种基于胶体微球纳米透镜的无掩模光刻系统，用以实现微纳米结构的转移。本系统基于现有光刻系统，利用胶体微球制备的纳米透镜对光束进行聚集，形成的聚焦阵列对光刻胶感光，可以实现间距为100nm-2000nm的点阵排列。此系统实现微纳米点阵结构，工艺简单，不需要添加额外的设备，克服了纳米球光刻工艺中，需要重复组装微纳米球所导致的产业化困难、工艺效率低下以及由此产生的质量不可控等缺点。本发明在图形转移上高度可控、图形高度精确有序、图形花样多样、操作简单、成本低廉，便于工业化生产，在制备纳米图形衬底、量子点、等离子体、网孔电极、光子晶体和微纳米器件等上有很好的应用前景。 |
| 申请日期 | 2013-03-29
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| 授权日期 | 2016-08-31
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| 专利号 | ZL201310106402.5
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| 语种 | 中文
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| 授权国家 | 中国
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| 文献类型 | 专利
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| 条目标识符 | http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/59501
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| 专题 | 微重力重点实验室
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
蓝鼎,吴奎,魏同波,等. 基于胶体微球纳米透镜的无掩模光刻系统. ZL201310106402.5[P]. 2016-08-31.
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文件名：
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CN103217874A.pdf
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格式：
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Adobe PDF
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