基于胶体微球纳米透镜的无掩模光刻系统 | |
蓝鼎; 吴奎; 魏同波; 王育人 | |
2016-08-31 | |
Rights Holder | 中国科学院力学研究所 |
Abstract | 本发明公开一种基于胶体微球纳米透镜的无掩模光刻系统,用以实现微纳米结构的转移。本系统基于现有光刻系统,利用胶体微球制备的纳米透镜对光束进行聚集,形成的聚焦阵列对光刻胶感光,可以实现间距为100nm-2000nm的点阵排列。此系统实现微纳米点阵结构,工艺简单,不需要添加额外的设备,克服了纳米球光刻工艺中,需要重复组装微纳米球所导致的产业化困难、工艺效率低下以及由此产生的质量不可控等缺点。本发明在图形转移上高度可控、图形高度精确有序、图形花样多样、操作简单、成本低廉,便于工业化生产,在制备纳米图形衬底、量子点、等离子体、网孔电极、光子晶体和微纳米器件等上有很好的应用前景。 |
Application Date | 2013-03-29 |
Date Available | 2016-08-31 |
Patent Number | ZL201310106402.5 |
Language | 中文 |
Country | 中国 |
Document Type | 专利 |
Identifier | http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/59501 |
Collection | 微重力重点实验室 |
Recommended Citation GB/T 7714 | 蓝鼎,吴奎,魏同波,等. 基于胶体微球纳米透镜的无掩模光刻系统. ZL201310106402.5[P]. 2016-08-31. |
Files in This Item: | Download All | |||||
File Name/Size | DocType | Version | Access | License | ||
CN103217874A.pdf(577KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | View Download |
Items in the repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.
Edit Comment