IMECH-IR  > 先进制造工艺力学实验室
一种基于反应溅射迟滞效应的TiAlSiN涂层制备方法
夏原; 高方圆; 李光
2019-02-22
Rights Holder中国科学院力学研究所
Abstract本发明公开了一种基于反应溅射迟滞效应的TiAlSiN涂层制备方法,包括工件预处理、气路清洗、氩离子轰击、沉积结合层Ti、沉积过渡层TiN、沉积功能层TiAlSiN、冷却和出炉等步骤。本发明通过对反应溅射迟滞效应的“过渡模式”进行有效控制,在保证薄膜沉积速率的同时获得化学配比合适、结构性能优异的薄膜,解决了现有技术中存在的结构难以控制、沉积速率低、缺乏工艺稳定性和可重复性等问题,实现高硬度(38GPa)、低摩擦系数(0.3)、良好的附着力(大于80N)及耐高温性能好(超过1000℃)的TiAlSiN涂层的快速稳定制备,以该涂层制备的高速干切削刀具和高温成型模具在表面耐磨润滑及抗高温方面表现出很大的优势,具有巨大的经济和社会效益。
Application Date2017-05-11
Patent NumberZL201710328563.7
Language中文
Country中国
Agency北京和信华成知识产权代理事务所
Document Type专利
Identifierhttp://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/80897
Collection先进制造工艺力学实验室
Affiliation中国科学院力学研究所
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GB/T 7714
夏原,高方圆,李光. 一种基于反应溅射迟滞效应的TiAlSiN涂层制备方法. ZL201710328563.7[P]. 2019-02-22.
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