| 一种高硅铝合金等离子体电解氧化陶瓷涂层制备方法 |
| 夏原 ; 高方圆; 李光; 聂学渊
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| 2019-02-26
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| 专利权人 | 中国科学院力学研究所
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| 摘要 | 本发明公开了一种高硅铝合金等离子体电解氧化陶瓷涂层制备方法，包括预处理、确定负向截止电压、制备涂层等步骤。本发明基于等离子体电解氧化涂层制备过程中的放电特性，解决了现有技术中存在的高硅铝合金陶瓷涂层的结构完整性和力学性能不稳定等问题，实现了高硬度(1000Hv)、高速油润滑的低摩擦系数(0.05)及良好的耐腐蚀性能(中性盐雾超过1400h)的高硅铝合金等离子体电解氧化陶瓷涂层的快速稳定制备，保证了工业化生产过程中的工艺稳定性和可重复性，具有巨大的经济和社会效益。 |
| 申请日期 | 2017-06-16
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| 专利号 | ZL201710454908.3
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| 语种 | 中文
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| 授权国家 | 中国
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| 代理机构 | 北京和信华成知识产权代理事务所
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| 文献类型 | 专利
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| 条目标识符 | http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/80902
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| 专题 | 先进制造工艺力学实验室
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| 作者单位 | 中国科学院力学研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
夏原,高方圆,李光,等. 一种高硅铝合金等离子体电解氧化陶瓷涂层制备方法. ZL201710454908.3[P]. 2019-02-26.
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文件名：
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CN201710454908.3.pdf
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格式：
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Adobe PDF
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