| 一种空间磁控溅射镀膜装置 |
| 蓝鼎 ; 翟思晗; 王育人
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| 2021-08-31
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| 专利权人 | 中国科学院力学研究所
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| 摘要 | 本发明属于太空表面镀膜设备技术领域，针对现有的表面镀膜装置也无法直接适用于空间领域，本发明的目的在于提供一种空间磁控溅射镀膜装置，气氛保持系统设置有密封门，气氛控制系统设置有充气装置，通过充气装置定量向气氛保持系统内充气，膜层制备系统和样品位安装于气氛保持系统内部，膜层制备系统设置有一个或多个溅射源，通过薄膜检测系统检测制备完成的膜层。可实现空间环境下单腔体内的多工位镀膜、以及所镀样品的初步质量检测。本装置充分利用空间高真空优势，使膜层纯度更高，整个装置具有能耗低，可在空间大规模开展薄膜制备，表面处理的优势。 |
| 申请日期 | 2020-11-05
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| 授权日期 | 2021-08-31
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| 专利号 | ZL202011222688.X
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| 语种 | 中文
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| 授权国家 | 中国
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| 代理机构 | 北京和信华成知识产权代理事务所
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| 文献类型 | 专利
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| 条目标识符 | http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/88091
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| 专题 | 微重力重点实验室
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| 作者单位 | 中国科学院力学研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
蓝鼎,翟思晗,王育人. 一种空间磁控溅射镀膜装置. ZL202011222688.X[P]. 2021-08-31.
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文件名：
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20210831_0C_CN_0 (1).pdf
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格式：
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Adobe PDF
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