一种高熵合金组合物、高熵合金薄膜及高熵合金靶材和薄膜的制备方法

IMECH-IR > 先进制造工艺力学实验室

	一种高熵合金组合物、高熵合金薄膜及高熵合金靶材和薄膜的制备方法
	夏原; 许亿; 李光
	2021-10-08
专利权人	中国科学院力学研究所
摘要	本发明实施例公开了一种高熵合金组合物、高熵合金薄膜及高熵合金靶材和薄膜的制备方法，组合物包括Al、Cr、Ti、Gd和Zr；薄膜为通过组合物经真空熔炼和磁控溅射制得。本发明的实施方式具有如下优点：1、特定的原料种类之间的协同配合使最终得到的高熵合金薄膜具有优异的耐高温、抗腐蚀和高强度等优异性能；2、利用磁控溅射的方法，将铸态时晶态的AlCrTiGdZr合金转变成非晶态的薄膜，极大的提高了薄膜的致密性，减少了薄膜的缺陷，进一步提高薄膜的性能，使其具有更为广阔的应用前景；3、整个操作过程可以在室温下进行，且无污染排放物生成，使整个制备具有高效清洁的优点。
申请日期	2020-04-21
授权日期	2021-10-08
专利号	ZL202010316745.4
语种	中文
授权国家	中国
代理机构	北京和信华成知识产权代理事务所
文献类型	专利
条目标识符	http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/88103
专题	先进制造工艺力学实验室
作者单位	中国科学院力学研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	夏原,许亿,李光. 一种高熵合金组合物、高熵合金薄膜及高熵合金靶材和薄膜的制备方法. ZL202010316745.4[P]. 2021-10-08.