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一种基于反应溅射迟滞效应的TiAlSiN涂层制备方法 专利
发明专利. 一种基于反应溅射迟滞效应的TiAlSiN涂层制备方法, 专利号: ZL201710328563.7, 申请日期: 2017-05-11,
发明人:  夏原;  高方圆;  李光
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