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表面粗糙度对化学机械抛光工艺过程流动性能的影响 期刊论文
润滑与密封, 2009, 期号: 8, 页码: 33-38+52
作者:  魏红波;  谭援强;  高太元;  李明军
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化学机械抛光  润滑方程  粗糙表面  分形  
CMP流场的数值模拟及离心力影响分析 期刊论文
力学学报, 2008, 卷号: 40, 期号: 6, 页码: 729-734
作者:  高太元;  李明军;  胡利民;  高智
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化学机械抛光  离心力  润滑方程  压力分布  Chebyshev加速超松弛技术  
CMP润滑方程的Chebyshev加速超松弛法求解 期刊论文
自然科学进展, 2007, 卷号: 17, 期号: 12, 页码: 1724-1728
作者:  高太元;  李明军;  高智
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化学机械抛光  润滑方程  压力分布模型  Chebyshev加速超松弛技术  
轻负荷磁头的动态频率响应 期刊论文
应用力学学报, 1994, 期号: 01, 页码: 1-7+118
作者:  傅仙罗;  孙征
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磁头滑块  Reynolds方程  频率响应  
负压磁头气动力静态特性 期刊论文
计算机学报, 1993, 卷号: 16, 期号: 7, 页码: 559
作者:  傅仙罗;  王凌志
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