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离子源预处理工艺对WC基底表面及Ta缓冲涂层的影响 期刊论文
材料热处理学报, 2015, 卷号: 36, 期号: 6, 页码: 164-168
作者:  魏俊俊;  朱小研;  陈良贤;  刘金龙;  黑立富;  李成明;  张勇
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离子源预处理  结合力  表面粗糙度  表面最大峰谷值  
Molecular dynamics simulation of an argon cluster filled inside carbon nanotubes 期刊论文
Chinese Physics B, 2014, 卷号: 23, 期号: 10, 页码: 106105
作者:  Cui SW(崔树稳);  Zhu RC(朱如曾);  Wang XS;  Yang HX;  Zhu, RZ (reprint author), Chinese Acad Sci, Inst Mech, State Key Lab Nonlinear Mech LNM, Beijing 100190, Peoples R China.
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Carbon Nanotubes  Argon Cluster  Molecular Dynamics Simulation