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一种高硅铝合金等离子体电解氧化陶瓷涂层制备方法 专利
发明专利. 一种高硅铝合金等离子体电解氧化陶瓷涂层制备方法, 专利号: ZL201710454908.3, 申请日期: 2017-06-16,
发明人:  夏原;  高方圆;  李光;  聂学渊
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Plasma characteristics and dynamics in a high power pulsed magnetron sputtering discharge 期刊论文
中国科学院大学学报, 2015, 卷号: 32, 期号: 2, 页码: 145-154
作者:  Xia Y(夏原);  Gao FY(高方圆);  Li G(李光)
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Hipims  Hppms  等离子体动力学  放电特性  高离化率  
喷镀式等离子体电解氧化陶瓷层力学特性及电场分析 学位论文
硕士论文，北京: 中国科学院研究生院, 2014
作者:  郝丽
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等离子体电解氧化陶瓷涂层生长放电特性的研究 学位论文
硕士论文，北京: 中国科学院研究生院, 2012
作者:  刘晓静
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