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FexSi grown with mass-analyzed low-energy dual ion beam deposition 期刊论文
Journal of Crystal Growth, 2004, 卷号: 263, 期号: 1-4, 页码: 143-147
作者:  Liu LF;  Chen NF(陈诺夫);  Zhang FQ(张富强);  Chen CL;  Li YL;  Yang SY;  Liu Z;  Liu, LF (reprint author), Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, Beijing 100083, Peoples R China.
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Auger Electron Spectroscopy  X-ray Diffraction  Ion Beam depositIon  Semiconducting Silicon  Doped Si-mn  Spin-photonics  Thin-films  Silicon  Gas