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Comparison of Cu thin films deposited on Si substrates with different surfaces and temperatures 期刊论文
APPLIED SURFACE SCIENCE, 2013, 卷号: 276, 页码: 417-423
作者:  Zhang J(张俊);  Liu C(刘崇);  Fan J(樊菁);  Zhang, J (reprint author), Chinese Acad Sci, Inst Mech, State Key Lab High Temp Gas Dynam, Beijing 100190, Peoples R China.
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Copper Thin Film  Deposition And Growth  Molecular Dynamics  Crystalline Structure And Orientation  
Growth and properties of Cu thin film deposited on Si(001) substrate: A molecular dynamics simulation study 期刊论文
Applied Surface Science, 2012, 卷号: 261, 期号: 15, 页码: 690-696
作者:  Zhang J(张俊);  Liu C(刘崇);  Shu YH(舒勇华);  Fan J(樊菁);  Fan, J (reprint author), Chinese Acad Sci, Inst Mech, State Key Lab High Temp Gas Dynam, Beijing 100190, Peoples R China.
Adobe PDF(1534Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1455/514  |  提交时间：2012/12/04
Embedded-atom Method  Epitaxial-growth  Si  Molecular Dynamics Method  Systems  Surface  Si(111)  Metals  Al  Thin Film Deposition And Growth  Crystalline Structure And Orientation  Surface Roughness