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基于胶体微球纳米透镜的无掩模光刻系统 专利
发明专利. 基于胶体微球纳米透镜的无掩模光刻系统, 专利号: ZL201310106402.5, 申请日期: 2013-03-29, 授权日期: 2016-08-31
发明人:  蓝鼎;  吴奎;  魏同波;  王育人
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纳米图形蓝宝石衬底上MOCVD外延生长AlN 会议论文
第十二届全国MOCVD学术会议, 中国福建厦门, 2012-04-11
作者:  董鹏;  闫建昌;  吴奎;  曾建平;  丛培沛;  孙莉莉;  蓝鼎;  王军喜;  李晋闽
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Mocvd  蓝宝石衬底  Aln  纳米图形  外延生长  侧向外延  外延层  Ain  纳米级  发光的  微米级  摇摆曲线  形貌  深紫外  原子的  迁移率  位错密度  自组装  紫外固化  反应室