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一种用于磁控溅射的高低压转换装置 专利
发明专利. 一种用于磁控溅射的高低压转换装置, 专利号: ZL201410652562.4, 申请日期: 2014-11-17, 授权日期: 2017-02-22
发明人:  夏原;  李光;  朱洪亚
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发射光谱反馈控制磁控溅射制备Cr-DLC多层膜 学位论文
硕士论文，北京: 中国科学院大学, 2016
作者:  朱洪亚
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