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Behavior of ar plasma formed in a high-density plasma source - an ecr reactor 期刊论文
Acta Physica Sinica-Overseas Edition, 1994, 卷号: 3, 期号: 10, 页码: 746-757
作者:  Wu HM(吴汉明);  Graves DB;  Porteous RK;  Li M;  WU, HM (reprint author), ACAD SINICA,INST MECH,BEIJING 100080,PEOPLES R CHINA.
Adobe PDF(348Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：492/80  |  提交时间：2009/08/03