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一种同时观测晶体形貌及测量晶体周围浓度场的装置 专利
发明专利. 一种同时观测晶体形貌及测量晶体周围浓度场的装置, 专利号: ZL201921593420.X, 申请日期: 2019-09-24, 授权日期: 2020-06-19
发明人:  戴国亮;  史建平
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基于直线光路布局的纹影法测量火焰温度 期刊论文
空间科学学报, 2020, 卷号: 40, 期号: 01, 页码: 79-85
作者:  史建平;  刘俊果;  戴国亮
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纹影法  直线型光路布局  火焰结构  温度测量  
Evaporation of saline colloidal droplet and deposition pattern* 期刊论文
CHINESE PHYSICS B, 2020, 卷号: 29, 期号: 1, 页码: 7
作者:  Sun HH(孙弘辉);  Li WB(李伟斌);  Ji WJ(纪文杰);  Dai GL(戴国亮);  Huan Y(郇勇);  Wang YR(王育人);  Lan D(蓝鼎)
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saline droplet  evaporation  deposition pattern  disease diagnosis