中文版 | English

在结果中检索

IMECH-IR

浏览/检索结果: 共2条，第1-2条 帮助

限定条件    
已选(0)清除 条数/页：   排序方式：
Effect of bias voltage on the growth of super-hard (AlCrTiVZr)N high-entropy alloy nitride films synthesized by high power impulse magnetron sputtering 期刊论文
APPLIED SURFACE SCIENCE, 2021, 卷号: 564, 页码: 10
作者:  Xu Y(许亿);  Li GD(李国栋);  Li G(李光);  Gao FY(高方圆);  Xia Y(夏原)
Adobe PDF(2620Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1140/138  |  提交时间：2021/08/16
High-entropy alloy nitride films  HiPIMS  Bias voltage  Plasma discharge characteristics  Microstructure  Hardness  
Effect of Cr Atom Plasma Emission Intensity on the Characteristics of Cr-DLC Films Deposited by Pulsed-DC Magnetron Sputtering 期刊论文
coatings, 2020, 卷号: 10, 期号: 7, 页码: 68
作者:  Li G(李光);  Xu Y(许亿);  Xia Y(夏原)
浏览  |  Adobe PDF(1017Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：305/70  |  提交时间：2020/06/29
diamond-like carbon (DLC)  plasma emission intensity  magnetron sputtering  tribological performance