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Growth and properties of Cu thin film deposited on Si(001) substrate: A molecular dynamics simulation study 期刊论文
Applied Surface Science, 2012, 卷号: 261, 期号: 15, 页码: 690-696
作者:  Zhang J(张俊);  Liu C(刘崇);  Shu YH(舒勇华);  Fan J(樊菁);  Fan, J (reprint author), Chinese Acad Sci, Inst Mech, State Key Lab High Temp Gas Dynam, Beijing 100190, Peoples R China.
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Embedded-atom Method  Epitaxial-growth  Si  Molecular Dynamics Method  Systems  Surface  Si(111)  Metals  Al  Thin Film Deposition And Growth  Crystalline Structure And Orientation  Surface Roughness