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离子源预处理工艺对WC基底表面及Ta缓冲涂层的影响 期刊论文
材料热处理学报, 2015, 卷号: 36, 期号: 6, 页码: 164-168
作者:  魏俊俊;  朱小研;  陈良贤;  刘金龙;  黑立富;  李成明;  张勇
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离子源预处理  结合力  表面粗糙度  表面最大峰谷值  
电弧离子镀薄膜中的颗粒尺寸及其影响的扫描电镜观察 期刊论文
电子显微学报, 2004, 卷号: 23, 期号: 3, 页码: 252-256
作者:  李成明;  孙晓军;  张勇;  李桂英;  曹尔妍;  唐伟忠;  吕反修
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电弧离子镀  
过滤电弧沉积的TiN/TiCrN/CrN/CrTiN多层膜 期刊论文
中国有色金属学报, 2003, 卷号: 13, 期号: 1, 页码: 167-171
作者:  李成明;  张勇;  李桂英;  曹尔妍;  吕反修
Adobe PDF(215Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:1122/332  |  提交时间:2010/05/03
显微硬度  结合力  多层膜  
过滤电弧沉积TiN、ZrN和TiN/CrN多层纳米薄膜的性能比较 会议论文
第七届全国摩擦学大会, 甘肃兰州, 2002
作者:  李成明;  孙晓军;  曹尔妍;  吕反修;  唐伟忠
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脉冲辅助过滤电弧沉积氮化物多层与复合膜研究 学位论文
博士后论文,北京: 中国科学院力学研究所, 2001
作者:  李成明
Adobe PDF(2297Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:472/0  |  提交时间:2009/04/13
磁过滤对多弧离子镀(TiAl)N薄膜的影响 期刊论文
中国有色金属学报, 2001, 卷号: 11, 期号: S1, 页码: 179-182
作者:  李成明;  张勇;  曹尔妍;  薛明伦
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离子钨钼共渗的组织分类 期刊论文
电子显微学报, 2000, 卷号: 19, 期号: 4, 页码: 555
作者:  郑维能;  李成明
Adobe PDF(152Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:370/99  |  提交时间:2010/05/03
多弧离子镀TiN和(TiZrCr)N膜中宏观颗粒的SEM分析 期刊论文
电子显微学报, 2000, 卷号: 19, 期号: 4, 页码: 565
作者:  李成明;  张勇;  曹尔妍
Adobe PDF(233Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:471/151  |  提交时间:2010/05/03
离子钨钼共渗的扩散机制 期刊论文
中国有色金属学报, 2000, 卷号: 10, 期号: 2, 页码: 185
作者:  李成明;  贺志勇;  徐重
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离子轰击  钨钼共渗  溶质空位复合体  扩散  
离子钨钼共渗的表观过程 期刊论文
材料科学与工艺, 2000, 卷号: 8, 期号: 1, 页码: 55
作者:  李成明;  赵晋香;  田林海;  王建明;  徐重;  郑维能
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离子轰击  渗层厚度  表面成分  等离子体密度