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中国科学院力学研究所机构知识库
Knowledge Management System of Institue of Mechanics, CAS
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离子源预处理工艺对WC基底表面及Ta缓冲涂层的影响
期刊论文
材料热处理学报, 2015, 卷号: 36, 期号: 6, 页码: 164-168
作者:
魏俊俊
;
朱小研
;
陈良贤
;
刘金龙
;
黑立富
;
李成明
;
张勇
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提交时间:2015/12/25
离子源预处理
结合力
表面粗糙度
表面最大峰谷值
电弧离子镀薄膜中的颗粒尺寸及其影响的扫描电镜观察
期刊论文
电子显微学报, 2004, 卷号: 23, 期号: 3, 页码: 252-256
作者:
李成明
;
孙晓军
;
张勇
;
李桂英
;
曹尔妍
;
唐伟忠
;
吕反修
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提交时间:2010/05/03
电弧离子镀
过滤电弧沉积的TiN/TiCrN/CrN/CrTiN多层膜
期刊论文
中国有色金属学报, 2003, 卷号: 13, 期号: 1, 页码: 167-171
作者:
李成明
;
张勇
;
李桂英
;
曹尔妍
;
吕反修
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浏览/下载:1122/332
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提交时间:2010/05/03
显微硬度
结合力
多层膜
过滤电弧沉积TiN、ZrN和TiN/CrN多层纳米薄膜的性能比较
会议论文
第七届全国摩擦学大会, 甘肃兰州, 2002
作者:
李成明
;
孙晓军
;
曹尔妍
;
吕反修
;
唐伟忠
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浏览/下载:476/119
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提交时间:2009/07/23
脉冲辅助过滤电弧沉积氮化物多层与复合膜研究
学位论文
博士后论文,北京: 中国科学院力学研究所, 2001
作者:
李成明
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提交时间:2009/04/13
磁过滤对多弧离子镀(TiAl)N薄膜的影响
期刊论文
中国有色金属学报, 2001, 卷号: 11, 期号: S1, 页码: 179-182
作者:
李成明
;
张勇
;
曹尔妍
;
薛明伦
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提交时间:2007/06/15
离子钨钼共渗的组织分类
期刊论文
电子显微学报, 2000, 卷号: 19, 期号: 4, 页码: 555
作者:
郑维能
;
李成明
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提交时间:2010/05/03
多弧离子镀TiN和(TiZrCr)N膜中宏观颗粒的SEM分析
期刊论文
电子显微学报, 2000, 卷号: 19, 期号: 4, 页码: 565
作者:
李成明
;
张勇
;
曹尔妍
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浏览/下载:471/151
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提交时间:2010/05/03
离子钨钼共渗的扩散机制
期刊论文
中国有色金属学报, 2000, 卷号: 10, 期号: 2, 页码: 185
作者:
李成明
;
贺志勇
;
徐重
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提交时间:2010/05/03
离子轰击
钨钼共渗
溶质空位复合体
扩散
离子钨钼共渗的表观过程
期刊论文
材料科学与工艺, 2000, 卷号: 8, 期号: 1, 页码: 55
作者:
李成明
;
赵晋香
;
田林海
;
王建明
;
徐重
;
郑维能
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提交时间:2010/05/03
离子轰击
渗层厚度
表面成分
等离子体密度