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中频对靶反应磁控溅射Al_2O_3、TiO_2、ZrO_2功能薄膜的特性研究 期刊论文
新技术新工艺, 2008, 期号: 8, 页码: 101-104+4
作者:  贾军伟;  潘文霞;  黄河激
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功能薄膜  磁控溅射  薄膜电阻  
中频对靶磁控溅射沉积工艺及薄膜特性研究 学位论文
硕士论文，北京: 中国科学院研究生院, 2008
作者:  贾军伟
Adobe PDF(2221Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：417/6  |  提交时间：2009/04/13