IMECH-IR

Browse/Search Results:  1-1 of 1 Help

Selected(0)Clear Items/Page:    Sort:
离子源预处理工艺对WC基底表面及Ta缓冲涂层的影响 期刊论文
材料热处理学报, 2015, 卷号: 36, 期号: 6, 页码: 164-168
Authors:  魏俊俊;  朱小研;  陈良贤;  刘金龙;  黑立富;  李成明;  张勇
View  |  Adobe PDF(453Kb)  |  Favorite  |  View/Download:73/14  |  Submit date:2015/12/25
离子源预处理  结合力  表面粗糙度  表面最大峰谷值