Diffusion mechanisms in the Fe3ASi

IMECH-IR > 力学所知识产出(1956-2008)

	Diffusion mechanisms in the Fe3ASi
	Chen YC(陈永冲); Zhang YG(张永刚); Wei BC(魏炳忱)
发表期刊	原子与分子物理学报
	2003
卷号	20 期号:2 页码:143-148
ISSN	1000-0364
摘要	In this paper, the possible reasons for the high thermal vacancy concentration and the low migration barriers for the Fe atom diffusion in the DO3 structure Fe3Si have been discussed.
学科领域	力学
收录类别	国内刊物
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/16219
专题	力学所知识产出(1956-2008)
推荐引用方式 GB/T 7714	Chen YC,Zhang YG,Wei BC. Diffusion mechanisms in the Fe3ASi[J]. 原子与分子物理学报,2003,20,2,:143-148.
APA	陈永冲,张永刚,&魏炳忱.(2003).Diffusion mechanisms in the Fe3ASi.原子与分子物理学报,20(2),143-148.
MLA	陈永冲,et al."Diffusion mechanisms in the Fe3ASi".原子与分子物理学报 20.2(2003):143-148.