等离子体电解氧化弧光放电的瞬态测定及温度场模拟

IMECH-IR > 先进制造工艺力学实验室

	等离子体电解氧化弧光放电的瞬态测定及温度场模拟
其他题名	Instantaneous measurement and temperature field simulation of arc discharge in plasma electrolytic oxidation process
	刘晓静; 李光; 段红平; 夏原
发表期刊	中国有色金属学报
	2011
卷号	21 期号:7 页码:1681-1687
ISSN	1004-0609
摘要	为描述等离子体电解氧化(PEO)过程中单个弧光放电通道内部及周围温度场分布,构建圆柱形放电通道模型。采用高速摄像机和概率统计方法,测定铝合金PEO膜层生长典型阶段弧光放电的弧斑密度及通道尺寸等特征参数;通过计算单个弧光的延迟寿命(140μs)以及能量,获得模型参数。采用Ansys软件模拟单个弧光放电通道内部及周围温度场分布,计算得出弧光通道中心温度超过2×104 K,从传热学角度解释了PEO陶瓷层中γ-Al2O3和α-Al2O3的生成过程以及陶瓷层微结构的形成原因。
其他摘要	In order to describe the temperature field distribution around a single discharge channel exactly during plasma electrolytic oxidation(PEO) process,a cylinder-shaped discharge model was designed.In the typical stage of the PEO coating growth on aluminium alloy,by using the high-speed camera and statistical method,the characteristic parameters of discharges,such as the spatial density of arc spot and size of channel,were measured,the lifetime(140 μs) and energy of a single spark were also calculated.The parameters of the model were obtained.The Ansys software was adopted to simulate the temperature field around a single discharge channel.The center temperature of the discharge channel was over 2×104 K.The results can explain the formation of γ-Al2O3 and α-Al2O3 and microstructure in the ceramic coatings from the heat transfer theory. 更多
关键词	等离子体电解氧化单弧光瞬态放电温度场模拟
学科领域	力学
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收录类别	EI ; CSCD
语种	中文
项目资助者	国家自然科学基金面上项目(10772179);国家自然科学基金重点项目(10832011);中国博士后科学基金资助项目(20090460536)
CSCD记录号	CSCD:4256622
课题组名称	MAM镀层工艺力学与摩擦学
引用统计	被引频次：1[CSCD] [CSCD记录]
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/45146
专题	先进制造工艺力学实验室
通讯作者	刘晓静
推荐引用方式 GB/T 7714	刘晓静,李光,段红平,等. 等离子体电解氧化弧光放电的瞬态测定及温度场模拟[J]. 中国有色金属学报,2011,21,7,:1681-1687.
APA	刘晓静,李光,段红平,&夏原.(2011).等离子体电解氧化弧光放电的瞬态测定及温度场模拟.中国有色金属学报,21(7),1681-1687.
MLA	刘晓静,et al."等离子体电解氧化弧光放电的瞬态测定及温度场模拟".中国有色金属学报 21.7(2011):1681-1687.

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