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| 第7届国际等离子体化学会议(ISPC-7) | |
| 朱清文 | |
| Source Publication | 力学进展
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| 1986 | |
| Volume | 16Issue:3Pages:412 |
| ISSN | 1000-0992 |
| Abstract | <正> Ⅰ.概况 国际等离子体化学会议(ISPC)每两年举行一次,主要交流等离子体化学如下几方面的研究和发展情况:合成,诊断,等离子体刻蚀,等离子体沉积和聚合,模型,表面作用以及熔化、气化、等离子体喷涂等。ISPC-7由荷兰Ejndhoven技术大学负责组织,Philips公司支持,在Philips会议中心举行。会议期1985年7月1—5日。第一天样品展览, |
| Keyword | 等离子体化学 等离子体喷涂 等离子体技术 等离子体诊断 等离子体刻蚀 高频等离子体 等离子体发生器 热力学性质 荧光光谱 |
| Language | 中文 |
| Document Type | 期刊论文 |
| Identifier | http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/37130 |
| Collection | 力学所知识产出(1956-2008) |
| Corresponding Author | 朱清文 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 朱清文. 第7届国际等离子体化学会议(ISPC-7)[J]. 力学进展,1986,16,3,:412. |
| APA | 朱清文.(1986).第7届国际等离子体化学会议(ISPC-7).力学进展,16(3),412. |
| MLA | 朱清文."第7届国际等离子体化学会议(ISPC-7)".力学进展 16.3(1986):412. |
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