IMECH-IR  > 微重力重点实验室
无机缓冲层对柔In2O3:SnO2薄膜光电及耐弯曲性能影响的研究
李玉琼
发表期刊光学学报
2010
卷号30期号:4页码:1205-1210
收录类别EI
语种中文
文献类型期刊论文
条目标识符http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/59132
专题微重力重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
李玉琼. 无机缓冲层对柔In2O3:SnO2薄膜光电及耐弯曲性能影响的研究[J]. 光学学报,2010,30,4,:1205-1210.
APA 李玉琼.(2010).无机缓冲层对柔In2O3:SnO2薄膜光电及耐弯曲性能影响的研究.光学学报,30(4),1205-1210.
MLA 李玉琼."无机缓冲层对柔In2O3:SnO2薄膜光电及耐弯曲性能影响的研究".光学学报 30.4(2010):1205-1210.
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