×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
切换中国科技网通行证登录
×
切换中国科技网通行证登录
登录
中文版
|
English
中国科学院力学研究所机构知识库
Knowledge Management System of Institue of Mechanics, CAS
登录
注册
ALL
ORCID
题名
作者
导师
关键词
文献类型
出处
出版者
发表日期
存缴日期
收录类别
资助项目
DOI
学习讨论厅
图片搜索
粘贴图片网址
首页
研究单元&专题
作者
文献类型
学科分类
知识图谱
新闻&公告
在结果中检索
研究单元&专题
微重力重点实验室 [2]
作者
张勇 [2]
Chen LX [1]
Hei LF [1]
Li CM [1]
Liu JL [1]
Wei JJ [1]
更多...
文献类型
期刊论文 [2]
发表日期
2015 [2]
语种
中文 [1]
英语 [1]
出处
THIN SOLID... [1]
材料热处理学报 [1]
收录类别
EI [2]
CSCD [1]
SCI [1]
资助项目
资助机构
National N... [1]
Ph.D. Prog... [1]
中央高校基本科研业务... [1]
国家自然科学基金(5... [1]
导师
×
知识图谱
IMECH-IR
开始提交
已提交作品
待认领作品
已认领作品
未提交全文
收藏管理
QQ客服
官方微博
反馈留言
浏览/检索结果:
共2条,第1-2条
帮助
限定条件
专题:微重力重点实验室
第一作者的第一单位
第一作者单位
通讯作者单位
发表日期:2015
已选(
0
)
清除
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
题名升序
题名降序
期刊影响因子升序
期刊影响因子降序
发表日期升序
发表日期降序
WOS被引频次升序
WOS被引频次降序
作者升序
作者降序
提交时间升序
提交时间降序
离子源预处理工艺对WC基底表面及Ta缓冲涂层的影响
期刊论文
材料热处理学报, 2015, 卷号: 36, 期号: 6, 页码: 164-168
作者:
魏俊俊
;
朱小研
;
陈良贤
;
刘金龙
;
黑立富
;
李成明
;
张勇
浏览
  |  
Adobe PDF(453Kb)
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:410/57
  |  
提交时间:2015/12/25
离子源预处理
结合力
表面粗糙度
表面最大峰谷值
Anti-sticking Re-Ir coating for glass molding process
期刊论文
THIN SOLID FILMS, 2015, 卷号: 584, 页码: 305-309
作者:
Zhu XY
;
Wei JJ
;
Chen LX
;
Liu JL
;
Hei LF
;
Li CM
;
Zhang Y(张勇)
;
Wei, JJ (reprint author), Univ Sci & Technol Beijing, Sch Mat Sci & Engn, Inst Adv Mat & Technol, Beijing 100083, Peoples R China.
浏览
  |  
Adobe PDF(1013Kb)
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:645/350
  |  
提交时间:2015/07/21
Anti-sticking Property
Monolayers
Rhenium
Iridium
Multilayers
Thin Films
Interfaces Resistance