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离子源预处理工艺对WC基底表面及Ta缓冲涂层的影响 期刊论文
材料热处理学报, 2015, 卷号: 36, 期号: 6, 页码: 164-168
作者:  魏俊俊;  朱小研;  陈良贤;  刘金龙;  黑立富;  李成明;  张勇
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离子源预处理  结合力  表面粗糙度  表面最大峰谷值  
电弧离子镀薄膜中的颗粒尺寸及其影响的扫描电镜观察 期刊论文
电子显微学报, 2004, 卷号: 23, 期号: 3, 页码: 252-256
作者:  李成明;  孙晓军;  张勇;  李桂英;  曹尔妍;  唐伟忠;  吕反修
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电弧离子镀  
离子钨钼共渗的组织分类 期刊论文
电子显微学报, 2000, 卷号: 19, 期号: 4, 页码: 555
作者:  郑维能;  李成明
Adobe PDF(152Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：377/103  |  提交时间：2010/05/03
多弧离子镀TiN和(TiZrCr)N膜中宏观颗粒的SEM分析 期刊论文
电子显微学报, 2000, 卷号: 19, 期号: 4, 页码: 565
作者:  李成明;  张勇;  曹尔妍
Adobe PDF(233Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：475/153  |  提交时间：2010/05/03
离子钨钼共渗的扩散机制 期刊论文
中国有色金属学报, 2000, 卷号: 10, 期号: 2, 页码: 185
作者:  李成明;  贺志勇;  徐重
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离子轰击  钨钼共渗  溶质空位复合体  扩散  
离子钨钼共渗的表观过程 期刊论文
材料科学与工艺, 2000, 卷号: 8, 期号: 1, 页码: 55
作者:  李成明;  赵晋香;  田林海;  王建明;  徐重;  郑维能
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离子轰击  渗层厚度  表面成分  等离子体密度