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离子源预处理工艺对WC基底表面及Ta缓冲涂层的影响 期刊论文
材料热处理学报, 2015, 卷号: 36, 期号: 6, 页码: 164-168
作者:  魏俊俊;  朱小研;  陈良贤;  刘金龙;  黑立富;  李成明;  张勇
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离子源预处理  结合力  表面粗糙度  表面最大峰谷值  
Anti-sticking Re-Ir coating for glass molding process 期刊论文
THIN SOLID FILMS, 2015, 卷号: 584, 页码: 305-309
作者:  Zhu XY;  Wei JJ;  Chen LX;  Liu JL;  Hei LF;  Li CM;  Zhang Y(张勇);  Wei, JJ (reprint author), Univ Sci & Technol Beijing, Sch Mat Sci & Engn, Inst Adv Mat & Technol, Beijing 100083, Peoples R China.
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Anti-sticking Property  Monolayers  Rhenium  Iridium  Multilayers  Thin Films  Interfaces Resistance