IMECH-IR  > 微重力重点实验室
Rotating compensator sampling for spectroscopic imaging ellipsometry
Meng YH(孟永宏); Jin G(靳刚); Jin, G (reprint author), Chinese Acad Sci, Inst Mech, 15 Bei Si Huan W Rd, Beijing 100190, Peoples R China
会议录名称THIN SOLID FILMS
2011
页码2742-2745
会议名称5th International Conference on Spectroscopic Ellipsometry
会议日期MAY 23-29, 2010
会议地点Albany, NY
摘要In this work, a rotating compensator sampling for spectroscopic imaging ellipsometry (SIE) is presented and demonstrated by characterization of a SiO(2) nanofilm pattern on Si substrate. Experiment results within spectrum of 400-700 nm show that the rotating compensator sampling is valid for SIE to obtain the ellipsometric angle distributions psi (x, y, lambda) and Delta (x, y, lambda) over the thin film pattern, the sampling times of psi (x, y) and Delta (x, y) with 576 x 768 pixels under each wavelength is less than 8 s, the precision of fitting thickness of SiO(2) is about 0.2 nm and the lateral resolution is 60.9 mu m x 24.6 mu m in the parallel and perpendicular direction with respect to the incident plane. (C) 2010 Elsevier B.V. All rights reserved.
关键词Rotating Compensator Spectroscopic Imaging Ellipsometry Spectroscopic Ellipsometry Imaging Ellipsometry Ellipsometry Nanofilm Pattern
课题组名称中科院国家微重力实验室
资助信息Univ Albany, Coll Nanoscale & Engn
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收录类别CPCI(ISTP)
语种英语
文献类型会议论文
条目标识符http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/45326
专题微重力重点实验室
通讯作者Jin, G (reprint author), Chinese Acad Sci, Inst Mech, 15 Bei Si Huan W Rd, Beijing 100190, Peoples R China
推荐引用方式
GB/T 7714
Meng YH,Jin G,Jin, G . Rotating compensator sampling for spectroscopic imaging ellipsometry[C]THIN SOLID FILMS,2011:2742-2745.
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