Selected(0)Clear
Items/Page: Sort: |
| 一种铝合金压铸基体的阻隔涂层 专利 发明专利. 一种铝合金压铸基体的阻隔涂层, 专利号: ZL202110831553.1, Inventors: 夏原 ; 李国栋; 许亿![](/image/person.jpg)
Adobe PDF(371Kb)  |   Favorite  |  View/Download:158/53  |  Submit date:2023/01/09 |
| 一种室温溅射制备晶态透明氧化铝薄膜的方法 专利 发明专利. 一种室温溅射制备晶态透明氧化铝薄膜的方法, 专利号: ZL202010227914.7, 申请日期: 2020-03-27, 授权日期: 2021-12-24 Inventors: 夏原 ; 高方圆 ; 李光![](/image/person.jpg)
Adobe PDF(672Kb)  |   Favorite  |  View/Download:241/54  |  Submit date:2022/01/14 |
| 一种钕铁硼磁体表面高耐蚀防护涂层的制备方法 专利 发明专利. 一种钕铁硼磁体表面高耐蚀防护涂层的制备方法, 专利号: ZL202010228017.8, 申请日期: 2020-03-27, 授权日期: 2021-08-24 Inventors: 夏原 ; 高方圆![](/image/person.jpg)
Adobe PDF(595Kb)  |   Favorite  |  View/Download:171/51  |  Submit date:2022/01/13 |
| 一种应用于钕铁硼的非晶铝锰涂层的HIPIMS制备方法 专利 发明专利. 一种应用于钕铁硼的非晶铝锰涂层的HIPIMS制备方法, 专利号: ZL202010418357.7, 申请日期: 2020-05-18, 授权日期: 2021-03-05 Inventors: 夏原 ; 李光![](/image/person.jpg)
Adobe PDF(729Kb)  |   Favorite  |  View/Download:127/22  |  Submit date:2021/11/23 |
| 一种类金刚石薄膜的制备方法 专利 发明专利. 一种类金刚石薄膜的制备方法, 专利号: ZL202010317118.2, 申请日期: 2021-04-21, 授权日期: 2021-01-05 Inventors: 夏原 ; 许亿 ; 李光![](/image/person.jpg)
Adobe PDF(371Kb)  |   Favorite  |  View/Download:152/44  |  Submit date:2021/11/19 |
| 一种切削刀具用耐高温氧化铝厚膜涂层的制备方法 专利 发明专利. 一种切削刀具用耐高温氧化铝厚膜涂层的制备方法, 专利号: ZL202010227623.8, 申请日期: 2020-03-27, 授权日期: 2021 Inventors: 夏原 ; 高方圆![](/image/person.jpg)
Adobe PDF(496Kb)  |   Favorite  |  View/Download:163/56  |  Submit date:2021/11/19 |
| Effect of Cr Atom Plasma Emission Intensity on the Characteristics of Cr-DLC Films Deposited by Pulsed-DC Magnetron Sputtering 期刊论文 coatings, 2020, 卷号: 10, 期号: 7, 页码: 68 Authors: Li G(李光) ; Xu Y(许亿) ; Xia Y(夏原)![](/image/person.jpg)
Adobe PDF(1017Kb)  |   Favorite  |  View/Download:358/86  |  Submit date:2020/06/29 diamond-like carbon (DLC) plasma emission intensity magnetron sputtering tribological performance |
| Synthesis and characterization of super-hard AlCrTiVZr high-entropy alloy nitride films deposited by HiPIMS 期刊论文 Applied Surface Science, 2020, 卷号: 523, 期号: 1, 页码: 146529 Authors: Xu Y(许亿) ; Li G(李光) ; Xia Y(夏原)![](/image/person.jpg)
Adobe PDF(1147Kb)  |   Favorite  |  View/Download:485/145  |  Submit date:2020/05/14 |
| Plasma characteristics and dynamics in a high power pulsed magnetron sputtering discharge 期刊论文 中国科学院大学学报, 2015, 卷号: 32, 期号: 2, 页码: 145-154 Authors: Xia Y(夏原) ; Gao FY(高方圆) ; Li G(李光)![](/image/person.jpg)
Adobe PDF(1949Kb)  |   Favorite  |  View/Download:340/93  |  Submit date:2015/12/25 Hipims Hppms 等离子体动力学 放电特性 高离化率 |