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| HiPIMS室温溅射晶态氧化铝薄膜的粒子能量调控 期刊论文
中国表面工程, 2022, 页码: 8
Authors: 高方圆 ; 许亿; 李国栋; 李光; 夏原
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HiPIMS 氧化铝薄膜 室温 晶化诱导 能量调控 |
| 一种室温溅射制备晶态透明氧化铝薄膜的方法 专利
发明专利. 一种室温溅射制备晶态透明氧化铝薄膜的方法, 专利号: ZL202010227914.7, 申请日期: 2020-03-27, 授权日期: 2021-12-24
Inventors: 夏原; 高方圆; 李光
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| Effect of bias voltage on the growth of super-hard (AlCrTiVZr)N high-entropy alloy nitride films synthesized by high power impulse magnetron sputtering 期刊论文
APPLIED SURFACE SCIENCE, 2021, 卷号: 564, 页码: 10
Authors: Xu Y(许亿); Li GD(李国栋); Li G(李光); Gao FY(高方圆); Xia Y(夏原)
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High-entropy alloy nitride films HiPIMS Bias voltage Plasma discharge characteristics Microstructure Hardness |
| 一种钕铁硼磁体表面高耐蚀防护涂层的制备方法 专利
发明专利. 一种钕铁硼磁体表面高耐蚀防护涂层的制备方法, 专利号: ZL202010228017.8, 申请日期: 2020-03-27, 授权日期: 2021-08-24
Inventors: 夏原; 高方圆
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| 一种切削刀具用耐高温氧化铝厚膜涂层的制备方法 专利
发明专利. 一种切削刀具用耐高温氧化铝厚膜涂层的制备方法, 专利号: ZL202010227623.8, 申请日期: 2020-03-27, 授权日期: 2021
Inventors: 夏原; 高方圆
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| Plasma characteristics and dynamics in a high power pulsed magnetron sputtering discharge 期刊论文
中国科学院大学学报, 2015, 卷号: 32, 期号: 2, 页码: 145-154
Authors: Xia Y(夏原); Gao FY(高方圆); Li G(李光)
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Hipims Hppms 等离子体动力学 放电特性 高离化率 |
| 力学所建成高能冲击磁控溅射装备系统并开放服务 期刊论文
力学与实践, 2015, 卷号: 37, 期号: 1, 页码: 112
Authors: 高方圆
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力学所 表面工程 表面功能 先进制造工艺 磁控溅射 材料摩擦 开放服务 耐腐蚀性 装备研制 中国科学院 |
| 磁控溅射TiAlSiN等离子体特性与成膜机理研究 学位论文
博士论文，北京: 中国科学院研究生院, 2012
Authors: 高方圆
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