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| HiPIMS室温溅射晶态氧化铝薄膜的粒子能量调控 期刊论文
中国表面工程, 2022, 页码: 8
Authors: 高方圆 ; 许亿; 李国栋; 李光; 夏原
 Adobe PDF(1191Kb) |  Favorite | View/Download：242/55 | Submit date：2022/10/17
HiPIMS 氧化铝薄膜 室温 晶化诱导 能量调控 |
| 一种室温溅射制备晶态透明氧化铝薄膜的方法 专利
发明专利. 一种室温溅射制备晶态透明氧化铝薄膜的方法, 专利号: ZL202010227914.7, 申请日期: 2020-03-27, 授权日期: 2021-12-24
Inventors: 夏原; 高方圆; 李光
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| Effect of bias voltage on the growth of super-hard (AlCrTiVZr)N high-entropy alloy nitride films synthesized by high power impulse magnetron sputtering 期刊论文
APPLIED SURFACE SCIENCE, 2021, 卷号: 564, 页码: 10
Authors: Xu Y(许亿); Li GD(李国栋); Li G(李光); Gao FY(高方圆); Xia Y(夏原)
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High-entropy alloy nitride films HiPIMS Bias voltage Plasma discharge characteristics Microstructure Hardness |
| 一种应用于钕铁硼的非晶铝锰涂层的HIPIMS制备方法 专利
发明专利. 一种应用于钕铁硼的非晶铝锰涂层的HIPIMS制备方法, 专利号: ZL202010418357.7, 申请日期: 2020-05-18, 授权日期: 2021-03-05
Inventors: 夏原; 李光
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| 一种类金刚石薄膜的制备方法 专利
发明专利. 一种类金刚石薄膜的制备方法, 专利号: ZL202010317118.2, 申请日期: 2021-04-21, 授权日期: 2021-01-05
Inventors: 夏原; 许亿; 李光
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| Effect of Cr Atom Plasma Emission Intensity on the Characteristics of Cr-DLC Films Deposited by Pulsed-DC Magnetron Sputtering 期刊论文
coatings, 2020, 卷号: 10, 期号: 7, 页码: 68
Authors: Li G(李光); Xu Y(许亿); Xia Y(夏原)
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diamond-like carbon (DLC) plasma emission intensity magnetron sputtering tribological performance |
| Synthesis and characterization of super-hard AlCrTiVZr high-entropy alloy nitride films deposited by HiPIMS 期刊论文
Applied Surface Science, 2020, 卷号: 523, 期号: 1, 页码: 146529
Authors: Xu Y(许亿); Li G(李光); Xia Y(夏原)
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| Plasma characteristics and dynamics in a high power pulsed magnetron sputtering discharge 期刊论文
中国科学院大学学报, 2015, 卷号: 32, 期号: 2, 页码: 145-154
Authors: Xia Y(夏原); Gao FY(高方圆); Li G(李光)
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Hipims Hppms 等离子体动力学 放电特性 高离化率 |
| 高能冲击磁控溅射等离子体发生与成膜控制平台 仪器设备
联系方式: 010-82544266, 建成日期: 2014
Authors: 李光
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